这个年代的光刻机，其门槛还是很低的，其本质就是一台投影仪，通过光将设计好的电路图投射到硅片上，以光为刀，在硅片上刻出电路图。
三大光刻机巨头能做，还有其他小型的的光刻机厂商也能做,就连几大芯片设计公司也可以尝试做几台。
根据摩尔定律，同样大小的集成电路，上面排列的晶体管数量每18个月就翻一番，性能会提升一倍。
但是，到20世纪90年代后，摩尔定律却不能延续下去，为什么呢？就是因为光刻机的光源波长在193纳米上再也降不下来,光源技术遇到了瓶颈。 轻文书屋
雕刻的东西越精密，刀尖就必须越细越锋利，怎样才能将193纳米的光波磨细呢？
正当业界一筹莫展时，一位叫林本坚的华人工程师却另辟蹊径，提出了一个脑洞大开的方案。
他想到的办法，就是在镜头和硅片之间加一层水。让光经过水的折射，降为132nm，这样投射到硅片的图案分辨率更清晰，晶片密度可以更高。
这就是后世被人赞誉的沉浸式技术。
此时，林本坚正拿着拿着这种全新的方案、怀揣着梦想，到日、美、德等国各大光刻机公司上门推销。
但是理想很完美，现实却很残酷。
光刻巨头们都不看好这种沉浸式技术，他们觉得通过光源技术降低光波才是正道。
同时，在芯片制造中需要完全无污染的环境，制造过程中加水容易产生水泡和造成污染，直接影响芯片的良品率，谁也不愿意为这种沉浸式技术耽误自己的光源研究。
林本坚并没有放弃，针对巨头们的顾虑，不断地优化自己的方案，一次又一次上门推销,但却是一次又一次地碰壁。
想到这里，李向阳没有迟疑，立刻给人打电话，抓紧联系林本坚，无论用什么办法，一定把这种沉浸式专利技术弄到手。
直接购买是不可能的，那就得到林本坚的授权，即使不能成为独占许可，那也不要让人排出专利许可之外。